XAU-4CS光譜分析儀

儀器簡介：

XAU-4CS是一款設計結構緊湊，模塊精密化程度高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設計，是一款一機多用型光譜儀。

應用核心EFP算法和微光聚集技術，既保留了專用測厚儀jiance微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區RoHSjiance及成分分析。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

產品優勢：

微小樣品jiance：zui小測量面積0.03mm2（加長測量時間可小zhi0.01mm2）

變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達0-30mm

自主研發的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚zhi有同種元素在不同層也jingque測量

先進的解譜技術：減少能量相近元素的干擾，jiangdi檢出限

高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

光路系統：微焦加強型射線管搭配聚焦、光路交換裝置

多準直器自動切換

應用領域：

廣泛應用于半導體行業、新能源行業、5G通訊、五金建材、航空航天、環保行業、汽車行業、貴金屬jiance、精密電子、電鍍行業等多種領域。

多元迭代EFP核心算法（專利號：2017SR567637）

zhuanye的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增qiangxiao應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法，結合先進的光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及yuoji物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，diyi層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

有害元素jiance：RoHSjiance，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價鉻（Cr VI）等有害元素的成分jiance及含量分析

技術參數：

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分zui低檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層zui低檢出限：0.005μm

5. zui小測量直徑□0.1*0.3mm（zui小測量面積0.03mm2）

    標配：zui小測量直徑0.3mm（zui小測量面積0.07mm2）

6. 對焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量：45KG

10. XY軸工作臺移動范圍：50mm*50mm

11. XY軸工作臺zui大承重：5KG

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機多用，無損jiance（涂鍍層jiance-環保RoHS-成分分析）

2.zui小測量面積0.002mm2

3.可jiance凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素，重復鍍層，同種元素不同層亦可jiance